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展会参展及公司主办研讨会

SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026

2026/

09.08 -09.11

活动、研讨会

Monterey Conference Center, California, USA (Booth #309)

活动概要

我司将于2026年9月8日（星期二）至11日（星期五）参加SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026。我们将介绍以下产品。期待您到NTT-AT的展位参观。

展会期间: 2026年9月8日-11日
举办地: Monterey Conference Center, California, USA (Booth #309)
主办机构: SPIE (The International Society for Optics and Photonics)
网站: https://spie.org/conferences-and-exhibitions/photomask-technology-and-extreme-ultraviolet-lithography

出展概要

出展品目

EUV镜/软X线镜
我们提供EUV用的多层膜镜和单层膜镜。
EUV双色镜
提供将EUV光与可见光和近红外光分离的分色镜。

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09.08 -09.11

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Monterey Conference Center, California, USA (Booth #309)