无溶剂高折射率纳米压印树脂开发及发售
2019年02月14日
恩梯梯尖端技术株式会社
恩梯梯尖端技术株式会社
恩梯梯尖端技术株式会社（以下称为：NTT-AT、总部：神奈川县川崎市、董事长兼总经理：木村丈治）、利用光学粘合剂生产中培养的折射率控制技术，开发了无溶剂高折射率纳米压印树脂#18247（以下称为本产品）、于2019年4月开始销售。
迄今为止的溶剂型高折射率纳米压印树脂，需要加热工序使溶剂挥发。但是本产品是无溶剂型，因此无需加热工序就可以制作纳米尺寸的图案。
本产品将于2019年2月5日（周二）至7 日（周四）期间、在旧金山举行的“Photonics West 2019”进行邀请演讲并参展。
开发背景
生产光学粘合剂折射率调整技术必不可缺、我们一直在开发提高折射率和降低折射率的技术。本产品，通过添加无机纳米填料＊1，维持透明度的同时，实现了高折射率。此外，通过无溶剂化，实现了之前溶剂型纳米压印树脂不可能实现的厚膜化、可以满足广泛的需求。
纳米压印图案例
特点
以前的溶剂型纳米压印树脂#18210，成膜后需要加热工序，但是本产品成膜后无需高温加工。即使厚膜在可见光区域具有高透明度。
应用实例
作为纳米压印树脂＊2 ，除了原有溶剂型之外，还可选择无溶剂型。
特性
| 条件 | 单位 | #18247 | ||
|---|---|---|---|---|
| 固化前 | 黏度 | E型粘度计：25℃ | mPa .s | 138 |
| 固化条件 | 紫外灯 at 365nm | - | 100mW/cm2 1分钟 | |
| 固化后 | 折射率 | 棱镜耦合器：25℃ | - | 1.77 (403nm) |
| 1.70 (633nm) | ||||
| 1.69 (848nm) | ||||
| 阿贝数 | 棱镜耦合器：25℃ | - | 24 | |
| 浊度 | 膜厚： 50μm | % | <0.1 | |
| Tg | 动态粘弹性:(tanδmax温度) | ℃ | 125 | |
| 透过率 | 膜厚： 50μm | % | 95 (450nm) | |
| 96 (540nm) | ||||
| 97 (630nm) | ||||
关于展会
本产品及有关产品将于2019年2月5日（周二）至7 日（周四）期间、在旧金山The Moscone Center举行的“Photonics West 2019”参展。展会信息：https://new-www.at-official.ict-24cloud.com/eventseminar/event/2019/detail/e_20190205/
＊1无机纳米填料
应用于高折射率材料的无机氧化物纳米颗粒。
＊2 纳米压印树脂
通过在基板 (基板) 上按下图案类型进行精细加工的技术。
有关本件的咨询地点
恩梯梯尖端技术株式会社中国代表处
TEL: 021-6236-8015/8016