纳米压印模具
恩梯梯尖端技术公司能满足从下一代光刻的20纳米精密图案至X微米的生物微系统的订货等对纳米压印模具的广泛需求
优点
在各领域中，纳米压印技术的应用正在加速。恩梯梯尖端技术公司能提供研究、开发、应用和商品化等各个阶段所需的纳米压印模子。
纳米压印模子的应用领域通常可分为三大领域：用于光纤的模子、用于半导体的模子和用于其它应用的模子。
特点
1.用于光纤的模子
本公司利用基于半导体加工的精密加工技术制作用于微透镜、全息图、蛾眼和衍射光栅的图案。
加工示例
球体图案（微透镜）
-
该图案用于Si基板、石英基板、Ni电铸等的材料
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通过用球体覆盖整个区域，几乎能获得百分之百的充填系数。
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透镜间距可从数微米至250微米，范围很大
多层图案
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可为反射型和突出型。
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该图案用于Si基板、石英基板等的材料
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像素尺寸：从250纳米起
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数字化成4个水准或8个水准
圆锥图案
（蛾眼结构）
（蛾眼结构）
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基板材料：Si和Ni电铸
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图案范围：从50毫米起
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间距：200纳米至500纳米
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深度: 100纳米至500纳米
V线状型和乐句型
1微米间距V线状
1微米间距V线状
- 基板: 硅
- 图案间距：从100纳米起
- 深度：50纳米
2.用于半导体的模子
恩梯梯尖端技术公司将利用精密图案NIL（纳米压印光刻）支持用户的可望成为半导体用下一代光刻技术的20纳米左右的NIL 技术开发。带有高精度图案的石英模子
直径为70纳米
超过10微米的大空间
加工示例
SiO2、Si模子
深度的均匀性与图案尺寸无关。
深度的均匀性与图案尺寸无关。
3.用于其它应用的模子
纳米压印的精密图案形成技术可望应用于各个领域。除了包括石英和硅的各种材料的加工之外，还进行有精细点图案、高纵横比图案和深蚀刻图案的形成和加工以满足用户的需求。也可提供评估转移印刷精度和释放特性等系统和树脂特性的标准图案（线的宽度为40、60、80和100纳米，深度为100纳米）。
加工示例
超精密图案
36纳米间距点
36纳米间距点
- 基板：石英、硅、SiO2、Si、Ni和SiC
- 最小图案间距：约35纳米
- 深度：从20纳米起
- 图案：L&S、点、孔和环
高纵横比图案
1.0纵横比
1.0纵横比
- 基板：硅
- 图案间距：从50纳米起
- 深度：从100纳米起
- 图案：线条和L&S
深蚀刻图案
40微米高的圆柱图案
40微米高的圆柱图案
- 基板：石英
- 深度：100纳米为止
商品目录
图案布局
SEM示意图
【规格】
| 基板 | |
|---|---|
| 材料 | 石英 |
| 尺寸 | 10平方毫米 |
| 厚度 | 1mm |
| 图案 | |
|---|---|
| 图案区域 | 7平方毫米 |
| 类型 | L&S（图案区域：凹形、边缘：凸形） |
| 线宽 | 45 , 60 , 80 , 100nm |
| 负载比 | 1:1 , 1:5 |
| 深度 | 100nm |
实绩
恩梯梯尖端技术公司已利用半导体精密加工技术提供了20多年纳米压印模子。
本公司已向下一代光刻、光纤、生物技术和医学应用等各领域的企业、大学和研究所销售该产品